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  • 致力于美好環境

    致力于美好環境

    致力于美好環境

    泛半導體工藝廢氣解決方案

     

     

     

    泛半導體生產過程中大量使用的化學品與特殊氣體,持續產生成分復雜的工藝廢氣。廢氣治理直接影響客戶的產能利用率、產品良率,以及員工職業健康、生產環境。針對各工藝段產生的廢氣,盛劍環境提供一般排氣、酸性、堿性、有毒、VOCs等廢氣系統解決方案。

     

    光電顯示

    TFT-LCD的陣列、彩膜、成盒、模組工序產生大量有害廢氣,包括酸性、堿性、有機廢氣及含氟廢氣等。

    AMOLED的陣列、模組工序產生酸性、堿性、有機等工藝廢氣。

     

    集成電路

    集成電路制造的核心工藝流程主要包括摻雜、光刻、刻蝕和薄膜工藝。

    在硅片清洗、氧化、濕法腐蝕、干法腐蝕、離子注入、擴散、化學氣相沉積等環節產生大量酸堿、砷烷、磷烷、有機等工藝廢氣。

     

    酸堿廢氣系統

     

     

     

     

     

     

     


                                                                     

     

    設計功能

    處理IC硅片清洗,以及TFT-LCD陣列、彩膜,AMOLED陣列等生產工藝中產生的酸性、堿性污染物氣體,實現達標排放。

    適用廢氣

    酸性氣體磷酸、乙酸、硝酸、鹽酸、氮氧化物、氟化物、硫酸、氯氣等。堿性氣體氫氧化鉀、氨等。

    工藝原理

    含酸性或堿性成分的工藝廢氣進入洗滌塔后,在塔內循環水中產生中和反應。廢氣與塔內循環水以交叉逆流或垂直截流方式接觸。同時通過利用循環水泵將中和藥噴淋至塔內填料床,增大廢氣與中和液接觸面積。通過使用PH計控制加藥系統,液位計控制補水系統、電導度計控制排水系統,壓差與壓力傳感器監控運行,實現對洗滌塔中循環水酸堿度、電導度等的精密控制。

    系統優勢

    符合美國(國際材料試驗協會) ASTM D3299/ASTMC582 等標準。1級火焰蔓延等級。多級處理,可同時處理不同類型廢氣。填料采用國外創新滴點技術,有效比表面積大、質傳效率高、空隙率高、壓損低、液泛速度高。

     

    設計功能

    排出潔凈區工藝機臺在運轉過程中產生的大量熱氣和水汽,從而保持生產區的溫濕度、潔凈度。

    適用廢氣

    適用于一般工藝排氣、高溫排氣、濕排氣。

    系統優勢

    將FAB主廠房內的一般排氣、高溫排氣、濕排氣分別收集至 SUBMAIN 管,匯總至室外的HEADER 管,通過排氣風機排放至大氣中。

     

     

     

     

     

     

     


                                                                     

     

    一般排氣系統

     

     

     

     

     

     

     


                                                                     

     

    前置廢氣處理裝置

     

     

     

     

     

     

     


                                                                     

     

    LOCAL VOC

     

    設計功能

    吸附濃縮IC、光電產業生產過程中,黃光區內光阻涂布等制程工藝揮發的有機物,并輸送至后序中央有機排氣系統集中處理。避免VOCs在潔凈間環境內積聚,影響產品良品率。

    適用于含PGMEA、PGME、IPA、環己酮等為主的有機揮發性氣體。

    恒溫恒濕潔凈環境,處理效率≥98%。

    工藝原理

    集成過濾器、沸石轉輪與電加熱器。沸石吸附濃縮潔凈間廢氣中VOCs成分,經電加熱器加熱脫附,恢復吸附能力,持續吸脫附。經沸石濃縮的VOCs進入下一步工序。

    LOCAL SCRUBBER

     

    設計功能

    前置處理薄膜、刻蝕、離子注入,擴散、外延等工藝機臺在制程中排出的劇毒、易燃易爆及溫室氣體等有害氣體。經處理的廢氣進入后段有毒、酸堿等系統進行二次處理,實現達標排放。

    適用廢氣

    適用于泛半導體工業制程廢氣前端處理領域,含氟、氯、硅、氮、氫等元素為代表的溫室氣體,以及劇毒性、易燃性有害氣體。

    工藝原理

    工藝機臺產生的有害廢氣經真空管道及附屬工藝真空設備,被導入內部反應腔,進行燃燒或高溫分解。經燃燒或高溫分解后的附產物,進入后序裝置進行二次處理(干式吸附除外),從而達到安全可靠集中收集、集中處理的目的。

    系統優勢

    高效處理大容量 SiH4,H2,NH3,PFCs等有害廢氣。

    根據所處工藝狀態點,自動適配最佳功率。

    三擋功率模式自動切換,極速升降溫,最大限度縮短預熱、保養用時,增加投入運營時間。

    盛劍系統服務

    盛劍同時提供后序酸堿系統、有毒系統等中央系統服務,實現從本地處理到最終達標排放的系統解決方案。

    有毒廢氣系統

     

     

     

     

     

     

     


                                                                     

     

    TFT-LCD、AMOLED等行業在CVD、干刻蝕、擴散、離子植入等生產工藝中,產生含粉塵、NOx、氟化物等有毒性污染物氣體。

    相應氣體經盛劍 LOCAL SCRUBBER 前置處理后,再進行除塵、酸堿中和及氧化還原處理,以滿足達標排放要求。

    彈匣式除塵系統

     

    設計功能

    有效過濾經 LOCAL SCRUBBER 處理后的干燥含塵廢氣,過濾后廢氣進入后續NOx等處理工序。

    適用廢氣

    氟化物(塵氟)、二氧化硅、塑膠粉塵等。

    工藝原理

    含塵廢氣自頂部進入集塵機,顆粒粗大的塵粒,在重力和慣性力作用下,沉降落入灰斗。

    顆粒細小的塵粒經過濾筒時,沉積在濾筒濾料表面,經吹掃落入灰斗。

    系統優勢

    粉塵 ≥ 0.3μm,處理效率達99%;低能耗,壓力控制穩定,可連續運行。

    濕式靜電除塵系統

     

    設計功能

    有效去除經 LOCAL SCRUBBER 處理后,含塵腐蝕性廢氣中的酸霧和粉塵顆粒物。過濾后廢氣進入后續處理工序。

    適用廢氣

    適用于氟化物(塵氟)、二氧化硅、塑膠粉塵、白煙等。

    工藝原理

    使含塵腐蝕性廢氣中的酸霧霧滴和粉塵粒子荷電,并在電場力作用下運動至集塵板,再釋放其電子,以集聚酸霧及塵粒;經連續水幕沖洗集塵板,酸霧及粉塵流入集液裝置,實現深度除霧、除塵;定期沖洗陰極系統及內部其他裝置,預防粉塵殘留。

    系統優勢

    塵粒 ≥ 0.05μm,濾除效率 ≥ 99%;低壓損低能耗,可連續性自動操作。

    氮氧化物廢氣處理系統

     

    設計功能

    有效去除廢氣中氮氧化物及其引起的黃煙問題。

    工藝原理

    添加化學藥劑進行氧化與還原反應,根據廢氣成分、濃度組合設計1-3級洗滌塔:

     

    第1級,氧化塔,添加H2SO4,NaClO2等氧化NO;

    第2級,還原塔,添加NaOH,NaHS等還原NO2;

    第3級,吸收塔,吸收H2S。

    系統優勢

    可有效解決氮氧化物引起的黃煙問題;可選雙 PH和ORP計設計,確保系統穩定可靠。

    VOCs處理系統

     

     

     

     

     

     

     


                                                                     

     

    冷凝處理系統

    設計功能
    去除高純度高價值油品和化學品廢氣中的VOCs成分,實現化學品提純回收;收集高沸點有機物,進入后序處理工序。
    工藝原理
    通過裝置中的制冷源及熱交換器對高純化學品廢氣進行兩級冷凝,水汽及大部分VOCs凝結成液滴排出,實現化學品提純;有機廢氣中高沸點有機物如NMF、BDG等,經冷凝成為液滴,進入下一段處理工序。
    系統優勢
    冷凝器采用精密除霧器,去除 ≥ 0.5μm霧滴,效率達99%。

    沸石轉輪濃縮系統

     

     

    設計功能

    持續吸附、高效濃縮大風量低濃度VOCs,轉化成小風量高濃度廢氣,以降低后序熱力氧化等工藝段處理裝置的規格,節約VOCs治理系統整體投資與運行成本。根據設計要求,可提供筒式、盤式轉輪。

    適用廢氣

    苯、醇、烷烴、醚、酮、酯類等。適用于濃度 ≤1g/m3,   濃縮倍率 4-40倍,單設備處理效率 90%-97%。

    工藝原理

    沸石為蜂窩狀吸附材料,具低溫吸附、高溫脫附特點。含VOCs廢氣進入轉輪,沸石吸附濃縮其中VOCs成分,潔凈氣體達標排放。已吸附VOCs的沸石模塊經高溫脫附,恢復吸附能力并轉至吸附區,持續吸脫附。經沸石濃縮的VOCs進入下一步工序。

    系統優勢

    豐富的轉輪制造與技術升級整合經驗;可持續穩定運行,安全性能可靠。

    盛劍系統服務

    轉輪脫附區供熱與盛劍焚燒爐余熱回收集成系統成熟,可有效利用熱能,優化整體控制;盛劍轉輪+熱力氧化系統已交付 > 100套;空間有限,建議采用盛劍VOCs凈化一體機“玲瓏”,已集成沸石轉輪與催化氧化工藝,極大節省空間;高沸點有機物與回收需求,建議集成盛劍冷凝系統。

    蓄熱式焚燒系統 RTO

     

    設計功能

    高溫燃燒VOCs,裂解為CO2和H2O,達標排放。采用陶瓷蓄熱材料,節省廢氣預熱、升溫的燃料消耗,回收余熱。可根據要求,設計三塔、雙塔及旋轉RTO。

    適用廢氣

    苯、醇、烷烴、醚、酮、酯類等。適用風量 > 2000Nm3/h 工況,處理效率≥98%,熱回收率 ≥ 95%。

    工藝原理

    VOCs在切換閥控制下,進入RTO陶瓷蓄熱體。經蓄熱陶瓷放熱及補充熱能,廢氣升溫至700℃-1000 ℃的裂解高溫,分解成CO2和H2O。進氣濃度足夠高時,濃度 ≥ 2g/m3,無需額外補充熱能。

    盛劍系統服務

    三塔式、雙塔式、旋轉蓄熱氧化系統廣泛應用于VOCs廢氣治理不同領域,可針對不同工況設計前序、后序工藝段,并回收熱能;低濃度廢氣,建議前序增加盛劍沸石轉輪吸附濃縮系統,降低運行成本;小風量、小空間設計需求,建議采用盛劍直燃式焚燒系統。

    燃式焚燒系統 TO

     

    設計功能

    高溫燃燒VOCs,裂解為CO2和H2O,實現達標排放。

    適用廢氣

    極強普適性。適用于苯、醇、烷 ,高濃度VOCs廢氣的氧化分解,包括含有機硅及顆粒物的廢氣處理。適用濃度≥  1g/m3,處理效率≥ 99%。

    工藝原理

    焚燒爐內氣流經燃燒機加熱升溫至700℃-1000℃,達到VOCs熱氧化反應溫度;導入VOCs,在焚燒爐反應室內經高溫裂解,達標排放。

    盛劍系統服務

    根據不同工藝產生的VOCs成分及具體工況,設計直燃式、蓄熱式等熱力氧化方案。

    針對含有機硅及顆粒物VOCs,提供直燃式焚燒爐專項設計方案;針對低濃度廢氣,設計前序沸石轉輪等吸附濃縮系統,降低投資運行成本。

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